Nguồn laser UV X series inngu
 
Giới thiệu:
Nguồn laser UV: Công nghệ khắc hiện đại và ứng dụng
Nếu bạn đang tìm kiếm một giải pháp khắc hiệu quả, chính xác và đa dạng cho các vật liệu khác nhau, bạn không thể bỏ qua nguồn laser UV. Đây là một công nghệ khắc sử dụng tia laser cực tím có bước sóng 355nm, có thể tạo ra những nét khắc mịn, sắc nét và không gây biến dạng vật liệu.
Trong bài viết này, chúng tôi sẽ giới thiệu cho bạn về nguồn laser UV, ưu điểm và nhược điểm của nó, cũng như các ứng dụng thực tế của công nghệ này trong các lĩnh vực khác nhau.
 
Nguồn laser UV là gì?
Nguồn laser UV là một thiết bị phát ra tia laser cực tím có bước sóng 355nm. Tia laser này có đặc tính là có điểm lấy nét nhỏ (khoảng 0.01mm), có khu vực tác động nhiệt rất thấp và có thể khắc được trên các vật liệu đặc biệt mà các loại laser khác không thể hoặc khó khăn.
Nguồn laser UV được sử dụng trong các máy khắc laser UV, máy cắt - khắc kính, thủy tinh, pha lê, nhựa,... Các máy này thường có kết cấu gọn nhẹ, tiêu thụ điện năng ít và tuổi thọ cao.
 
Ưu điểm và nhược điểm của nguồn laser UV
So với các loại nguồn laser fiber kim loại và nguồn laser CO2 thông thường, nguồn laser UV có những ưu điểm và nhược điểm sau:
 
Ưu điểm
- Chất lượng chùm tia rất tốt, cho phép khắc chính xác cao và độ phân giải cao.
- Khả năng khắc được trên các vật liệu trong suốt (kính, thủy tinh,...), dễ vỡ (pha lê,...), hay các kim loại phủ sơn, xi mạ,...
- Không gây biến dạng hoặc hỏng hóc cho vật liệu do khu vực tác động nhiệt rất ít.
- Thời gian xử lý nhanh hơn so với các loại nguồn laser khác.
- Tuổi thọ cao (khoảng 10.000 giờ) và không cần bảo trì thường xuyên.
- Tiết kiệm chi phí do tiêu hao ít điện năng.
 
Nhược điểm
- Chi phí ban đầu cao hơn so với các loại nguồn laser fiber kim loại và CO2.
- Công suất không cao bằng nguồn fiber kim loại hoặc CO2 (thường chỉ từ 3W đến 10W).
- Không phù hợp để cắt hoặc khoan các vật liệu dày hoặc cứng.
 
Ứng dụng:
Khắc phim ITO, Cắt gốm, khắc hoa văn và đánh dấu, Cắt và đánh dấu thủy tinh, Đánh dấu và cắt vật liệu polymer, Vi xử lý vật liệu, Cắt wafer, Tạo mẫu nhanh bằng laser, Nghiên cứu khoa học.

Thông số kỹ thuật:
 
MODEL
PULSE X 355-3
PULSE X 355-5
PULSE X 355-12
PULSE X
355-15S
PULSE X
355-20S
PULSE X
355-30PRO
PULSE X
355-40PRO
PULSE X
355-50PRO
Bước sóng
355nm
Phạm vi tốc độ lặp lại xung
10kHz đến 150kHz (Tùy chọn: bắn một lần đến 200kHz
)
30kHz đến 150kHz (Tùy chọn: bắn một lần đến 200kHz
)
40kHz đến 150kHz
50kHz đến 150kHz
60kHz đến 150kHz
50kHz đến 150kHz
Độ rộng xung
≤16ns@30kHZ
20±2ns@50kHz
16±2ns@50kHz
15±2ns@50kHz
15±2ns@60kHz
Công suất trung bình
>3W@30kHZ
>5W@30kHZ
>12W@50kHZ
>15W@50kHZ
>20W@50kHZ
>30W@50kHZ
>40W@60kHZ
>50W@60kHZ
Độ ổn định điện năng trung bình
<±3% trên 24 giờ
Ổn định xung đến xung
<3%rms
Chế độ không gian
TEM00 (M² <1.2)
TEM00 (M² <1.3)
Phân kỳ chùm tia Góc đầy đủ
< 2 mrad
Đường kính chùm 1 / e2
0,7mm
0,65±0,1mm
2±0,2mm
Độ tròn của chùm tia
>90%
Ổn định điểm chùm tia
<50urad
Hướng phân cực
Ngang
Tỷ lệ phân cực
100:1
Làm mát
Nước / Làm mát bằng không khí
Làm mát bằng nước